InvestigaciónMicroscopio metalográficoJXM-4100 JXM-4100DICMicroscopio metalográficoSe utiliza principalmente para identificar y analizar la estructura interna del metal y es un instrumento importante para el estudio de la metalografía. No solo se pueden observar imágenes dinámicas, sino también editar, guardar e imprimir las imágenes necesarias.Y el trabajo de medición. Puede ser ampliamente utilizado en electrónica, química yInstrumentaciónLa industria observa sustancias opacas y transparentes. Como metal, cerámica, circuitos integrados, chips electrónicos, placas de circuito impreso, placas de cristal líquido, películas finas, polvo, polvo de carbono JXM-4100DICEl microscopio metalográfico tiene muchos accesorios y una amplia gama de propiedades de uso, y puede hacer campos brillantes y oscuros.、Luz parcialYDICObservaciónEtc. |
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JXM-4100InvestigaciónMicroscopio metalográficoTabla de configuración |
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ComponentesNombre |
Parámetros técnicos |
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Fuselaje |
Estructura integrada,Esquema de diseño importado,Fundición a presión integral del fuselaje, estructura estable y confiable |
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Sistema óptico de corrección independiente de la diferencia de color infinita |
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Grupo de filtros de color de disco giratorio(Azul, verde, amarillo,50%Placa atenuante), incorporada |
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Mecanismo de elevación de enfoque: volante de ajuste de micro - Movimiento grueso coaxal de bajo nivel, ajuste fino del valor de la celosía del volante0.001mm |
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Voltaje ancho,110¿∽ sí?240V,50/60Hz |
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Tubo de Observación |
TresTubo de observación ocular, inclinación45, ajuste de la distancia pupilar50-75mm, visibilidad ajustable |
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Gafas oculares |
WF10X/20mm, punto de vista alto |
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Infinitamente lejosCampo planoJin XiangmingObjetivo |
JXM-4100C(lente de campo brillante) |
PL L 5X Distancia de trabajo:26.1 mm |
PL L 10X Distancia de trabajo:23mm |
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PL L 20X Distancia de trabajo:9mm |
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PL L 50X(S) Distancia de trabajo:7.9mm |
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JXM-4100MC(lente de campo oscuro) |
PL L 5X Distancia de trabajo:10mm |
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PL L 10X Distancia de trabajo:9.7mm |
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PL L 20X Distancia de trabajo:8.0mm |
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PL L 50X(S) Distancia de trabajo:2.5mm |
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Iluminación por caída |
Iluminación por caída:Barra de luz con apertura y barra de luz de campo de visión, Lámpara halógena12V/50W,AC85V-230V,Brillo ajustable |
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Caja de energía |
12V/50WCaja de alimentación de lámparas halógenas |
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Componente de polarización |
RotaciónComplemento de espejo de desviación |
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Complemento de espejo de desviación |
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Plataforma de carga |
Plataforma de carga móvil mecánica190mm ×140mm, rango de movimiento35mmX30mm |
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Convertidor de lentes |
CinturónDICInsertar el campo oscuro de kongmingCuatroConvertidor de agujeros |
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CTipo de interfaz |
1Conexión de cámara..CInterfaz(...) |
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Tubo de fusibles |
250V/5A Φ5X20 |
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Composición del sistema
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Tipo informático(JXM-4100C):1、Microscopio metalográfico 2, espejo adaptado3、300Cámara importada de 10.000 píxeles4, computadoras(selección) |
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Digital(JXM-4100D: 1, microscopio metalográfico2, espejo adaptado3, cámaras digitales |